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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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誠(chéng)峰等離子處理器的構(gòu)造關(guān)鍵劃分為三個(gè)大的部件組成

誠(chéng)峰等離子處理器的構(gòu)造關(guān)鍵劃分為三個(gè)大的部件組成:
       誠(chéng)峰等離子處理器運(yùn)用于清理、蝕刻、浸涂、灰化和表面改性等領(lǐng)域。經(jīng)過(guò)其清理,可以改進(jìn)材質(zhì)表面的濕潤(rùn)性能,使多種材質(zhì)可以進(jìn)行浸涂等操控,加強(qiáng)附著力、鍵合力,另外除去有機(jī)污染物、油污或油脂。誠(chéng)峰等離子處理器就是說(shuō)經(jīng)過(guò)使用這種活性組分的性質(zhì)來(lái)清理樣品表面,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)清潔等目標(biāo)。plasma等離子清洗機(jī)可用于清理、蝕刻、活化和表面準(zhǔn)備等。等離子體和固態(tài)、液體或氣體相同,是物質(zhì)的1種狀態(tài),也稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體增加充足的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的”活性”組分包含:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。誠(chéng)峰等離子處理器就是說(shuō)經(jīng)過(guò)使用這種活性組分的性質(zhì)來(lái)清理樣品表面,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目標(biāo)。

等離子處理器


      誠(chéng)峰等離子處理器的構(gòu)造關(guān)鍵劃分為三個(gè)大的部件組成,分別是控制單元、真空內(nèi)腔以及真空泵。
1.控制單元
國(guó)內(nèi)的等離子處理器,包含國(guó)外進(jìn)口的,控制單元關(guān)鍵劃分為半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。而控制單元又劃分為2個(gè)大的部件:
1)電源部件:關(guān)鍵電源頻率有3種,分別是四十KHz、13.56兆赫茲、2.45GHz,其中13.56兆赫茲是要電源匹配器的。
2)系統(tǒng)控制單元:按鈕控制(半自動(dòng)、全自動(dòng))、計(jì)算機(jī)控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)3種。
2.真空內(nèi)腔
真空內(nèi)腔主要是劃分為2種質(zhì)材的:
1)不銹鋼真空內(nèi)腔
2)石英內(nèi)腔
3.真空泵
真空泵劃分為2種:
1)干泵
2)油泵

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