CRF等離子清洗機制備納米粉末有別的獨有的優(yōu)勢：
       氧化鉍是一種重要的功能粉體材料，廣泛應(yīng)用于無機合成、電子陶瓷、化學(xué)試劑等領(lǐng)域，主要用于制造瓷介電容器，也可用于制造壓電陶瓷、壓敏電阻等電子陶瓷元件。鑒于納米氧化鉍粒度更細(xì)，除了擁有一般粒度的氧化鉍粉末的性質(zhì)和用途外，還可以用于對粒度有特殊要求的場合，如電子類材料、超導(dǎo)材料、特殊功能陶瓷材料、陰極射線管內(nèi)壁涂料等。

       因此，對納米Bi:O3制備方法及應(yīng)用的探索已引起了相關(guān)研究人員的廣泛興趣。制備納米Bi20,方式大致有固相反應(yīng)法、沉淀法、噴霧燃燒法、溶膠-凝膠法等，這些方法已取得良好的效果，但仍存在一些局限性：噴霧燃燒法制備的納米氧化鉍粒徑不均勻且對設(shè)備要求較高;化學(xué)法生產(chǎn)的納米氧化鉍易團聚，鑒于生產(chǎn)過程中使用了堿液，不可避免的帶入了堿金屬或堿土金屬離子，影響氧化鉍的純度。
CRF等離子清洗機等離子體的活性大，它是處于電離狀態(tài)的氣態(tài)物質(zhì)，是一種氣相的化學(xué)反應(yīng)。       plasma是純凈氣體電離產(chǎn)生的，有利于制備高純度的粉體。鑒于等離子表面處理機等離子體的溫度梯度大，所以容易得到高飽和度，也很容易實現(xiàn)快速淬冷，得到高純的納米粉末。與液相法對比，正常情況下氣相法制備的粉體產(chǎn)品純度高、表面清潔、結(jié)晶組織好、環(huán)境污染少，因而在制備鉍納米粉體時，使用氣相法更為有利。
        用CRF等離子清洗機制備納米粉末有許多用別的方式所不具備的優(yōu)點。等離子體為熱源，以普通微米級納米氧化鉍粉體為原料，通過選擇合適的功率、加料量，成功制備出粉末中位粒徑17.5nm、比表面積為47.73m/g的正方晶系納米BizO3粉末;制備的納米氧化鉍純度高、結(jié)晶組織好。