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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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有機(jī)材料crf電漿清洗機(jī)是否有清洗的效果

有機(jī)材料crf電漿清洗機(jī)是否有清洗的效果:
crf電漿清洗機(jī)活化工藝有著如下4點(diǎn):
①屬干式工藝,達(dá)到當(dāng)下節(jié)能、環(huán)保的需要;
②對(duì)所處理材料無(wú)特別要求,有著普遍適用性;
③加工時(shí)間短,僅有幾秒至幾分鐘;
④只對(duì)材料表層進(jìn)行改性,對(duì)基體本身不造成損壞。因此,等離子體技術(shù)與傳統(tǒng)的改性技術(shù)相比具有較好的應(yīng)用效果。

電漿清洗機(jī)

       等離子體是氣態(tài)完全或部分電離所產(chǎn)生的非凝聚體系,所謂“電離”是指至少有一個(gè)電子脫離原子或分子,從而使原子或分子轉(zhuǎn)換成帶正電荷的離子。該體系包括原子、分子、離子激發(fā)態(tài)和亞穩(wěn)態(tài)等。體系內(nèi)部正負(fù)電荷數(shù)量相等,宏觀上呈電中性。
等離子體技術(shù)在材料科學(xué)上的應(yīng)用尤為顯著,新材料的的開發(fā)是通過(guò)等離子體技術(shù)將其表面改性,以便達(dá)到更高的性能,這是當(dāng)前新材料研發(fā)的重要手段。
       等離子體對(duì)材料表面進(jìn)行改性的過(guò)程中,通常情況下通過(guò)撞擊材料表面,使材料表面原有化學(xué)鍵斷開以形成新的化學(xué)鍵。除離子外,等離子體中的大多數(shù)離子能量均高于化學(xué)鍵鍵能。這表明等離子體可以破壞材料表面的化學(xué)鍵而形成新的化學(xué)鍵。
       crf電漿清洗機(jī)清洗表面改性是將材料暴露在非聚合性氣體的等離子中,通過(guò)等離子體對(duì)材料表面進(jìn)行轟擊,使高分子結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,從而達(dá)到對(duì)高分子材料表面改性的目的。

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