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CRF plasma 等離子清洗機

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使用等離子活化機的哪些特性可以對半導體芯片、晶圓進行清洗

使用等離子活化機的哪些特性可以對半導體芯片、晶圓進行清洗:
        crf等離子活化機是干式工業清洗的1種方式,近幾年微電子工業術的發展,plasma的優勢越來越明顯。在半導體設備的生產過程中,晶片表面會有各種顆粒、金屬離子、有機物和殘留磨料顆粒。確保集成電路IC在不破壞芯片和其它材料的表面特性和電氣特性的情況下,必須清潔和去除芯片表面的這些有害污染雜質。否則,它們將對芯片性能產生致命的影響和缺陷,降低產品合格率,并限制設備的進一步開發。目前,幾乎每個設備生產過程都有清潔步驟,其目的是去除芯片表面污染、雜質,目前廣泛使用的物理和化學清潔方法可分為濕清潔和干清潔,特別是干清潔發展迅速,等離子活化機清潔優勢明顯,在半導體設備和光電元件包裝領域。什么是等離子活化機清洗?

等離子活化機

       等離子體是一部分電離氣體,由正離子、負離子、自由電子和其他帶電粒子以及不帶電的中性粒子組成,如刺激態分子和自由基。它被稱為等離子體,因為它的正負電荷總是相等的。這也是另一種物質存在的基本形式(第四種狀態)。
        一種新的形式必須有相應的化學行為。由于電子、離子和自由基等活性粒子在等離子體中的存在,它本身很容易與固體表面發生反應,可以分為物理或化學反應。通過化學或物理處理工作部件(生產過程中的電子元件及其半成品、印刷電路板)表面,實現分子水平污漬,去除污漬(一般厚度為3nm~30nm),改善表面活性的過程稱為等離子體清洗。其機制主要取決于等離子體中的活性粒子“活化作用”為了去除物體表面的污漬,無機氣體通常被刺激為等離子體,氣相物質被吸附在固體表面,吸附基團與固體表面分子反應產生產物分子,產物分子分析形成氣相,從表面分離反應殘留物。
         誠峰等離子活化機清洗的最大特點是金屬、半導體、氧化物、有機物和大多數聚合物材料也可以很好地處理。它只需要非常低的氣體流量,并且可以清潔整個、局部和復雜的結構。在等離子體清洗過程中,不使用化學溶劑,基本無污染物,有利于環境保護。此外,生產成本低,清洗均勻性好,重復性好,可控,易于批量生產。


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